特許
J-GLOBAL ID：200903013077502653

基板処理槽および基板処理装置

発明者：
荒木 浩之

荒木 浩之 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-147780
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335295
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 処理液の滞留個所をなくして薬液の置換やパーティクルの追い出しを確実に行う。【解決手段】 コントローラ23は、各電空レギュレータ24,25をそれぞれ介して左右の空気調圧式レギュレータ19,20毎に空気圧がそれぞれ略サインカーブで経時的に交互に異なるように制御しており、空気調圧式レギュレータ19,20をそれぞれ介して左右の処理液吐出ノズル9から異なる流量の処理液が基板4の左右下方側から中央部側に向けて供給される。これによって、処理槽3内での処理液の対流方向および対流強さを変化させて、処理槽3内の全ての位置で対流させることができる。
請求項（抜粋）：
処理液を貯留し、該処理液内に基板を浸漬して所定処理を施す基板処理槽において、基板処理槽内に配された一対の処理液供給部と、一対の処理液供給部の内の何れかに対する処理液の供給圧力および/または供給量を両側で経時的に異なるように制御する制御部とを有したことを特徴とする基板処理槽。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (3件)：
H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/306 J
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 浸漬型基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-283661   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • ウエハ洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054658   出願人：ソニー株式会社

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