特許

J-GLOBAL ID：200903013094154049

アラインメントマークを設ける方法、デバイス製造方法及びリソグラフィ装置

発明者： ヴァン ハレン,リチャード,ヨハネス,フランシスカス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-043854
公開番号（公開出願番号）：特開2009-212518
出願日： 2009年02月26日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】正確で高品質のアラインメントマークを基板に設ける方法及び装置などを提供する。【解決手段】実施形態は、基板上にアラインメントマークのセットを提供する方法に関する。方法は、基板の層上に要素サイズの要素の第一パターンを露光し、第一パターン上に異なる要素サイズの要素の第二パターンを露光することを含む。第一パターンと第二パターンの要素が重なって、アラインメントマークのセットを形成し、その縁部は小型要素によって形成される。実施形態は、このようなアラインメントマークのセットを提供するように構成されたリソグラフィ装置にも関する。実施形態は、熱に関連する歪みを考慮するために、リソグラフィ装置を較正する方法にも関する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板上にアラインメントマークのセットを設ける方法であって、 第一要素サイズを有する反復要素のセットを備える第一パターンを、基板の層の少なくとも1つの露光領域に露光し、 前記第一要素サイズとは異なる第二要素サイズの反復要素のセットを備える第二パターンを、前記第一パターン上で露光することを含み、前記第一パターンと第二パターンの前記要素は少なくとも部分的に重なり、組み合わされて、反復大型アラインメントマークのセットを形成し、それにより反復方向の前記アラインメントマークの縁部が小型要素によって形成される、当該露光すること、 を含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L21/30 522 ,  H01L21/30 502M ,  H01L21/30 525W ,  G03F9/00 H

Fターム (4件)：

5F046EA03 ,  5F046EA22 ,  5F046EA26 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-303915
  
• 位置合わせ処理プロセスの改良された統合を提供する細長い構造物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-518093   出願人：インテルコーポレイション
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-014035   出願人：松下電器産業株式会社
• アライメント装置、収差測定方法、及び収差測定マーク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-373070   出願人：株式会社東芝