特許
J-GLOBAL ID：200903013257497879
汚染を抑制したリソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びこれらによって製造されたデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-325789
公開番号（公開出願番号）：特開2005-150721
出願日： 2004年11月10日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】放射投影ビームを提供する放射システムが設けられたリソグラフィ投影装置を提供すること。【解決手段】本投影装置は、前記投影ビーム中の汚染粒子用のゲッタとしての役割を果たすようにするために前記放射投影ビーム中にゲッタ粒子を供給する粒子供給ユニット22を備えており、前記ゲッタ粒子は、少なくとも1nmであり、しかも1000nmより小さい直径を有することが好ましい。 一実施例において、本リソグラフィ投影装置は、前記投影ビーム中の汚染粒子を捕捉するためのプレート部材52、57、59、69を伴う汚染トラップ9、50、55、67と、粒子が汚染粒子と衝突してこれらのプレート部材52、57、59、69に向かう追加の速度成分を汚染粒子に与えるようにこの汚染トラップから上流の空間内に粒子を提供する粒子供給ユニット22、45、54、58、65、71とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射投影ビームを提供するための放射システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化する役割を果たすパターン化手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システムと
を備えるリソグラフィ投影装置であって、
前記投影ビーム中の汚染粒子用のゲッタとしての役割を果たすようにするために前記放射投影ビーム中に少なくとも1nmの直径を有するゲッタ粒子を供給するための粒子供給ユニット(22)を備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L21/30 531S
, G03F7/20 503
, G03F7/20 504
, H01L21/30 503G
, H01L21/30 531Z
2H097BB10
, 2H097LA10
, 5F046AA17
, 5F046AA28
, 5F046DA30
, 5F046GA09
, 5F046GB09
, 5F046GC03
, 5F046GC05
