リソグラフィ投影装置、素子製造方法、およびそれによって製造される素子

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-001119
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007611
出願日： 2002年01月08日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】放射源によって生成された望ましくない汚染物質を除去する。【解決手段】投影ビームと共に移動する汚染物質粒子をイオン化する。パージ・ガス供給源の上流に設けたゲッター板の方向に、パージ・ガスを引き付けることができる。磁界によって、イオン化装置が発生した電子を閉じ込めて、パージ・ガスのイオン化を改善する。幅よりも大きい長さを有する管内にプラズマを発生することで、汚染物質粒子をイオン化することができる。

請求項（抜粋）：

マスク内のマスク・パターンを基板上に結像するためのリソグラフィ投影装置であって:放射の投影ビームを供給するように構成され配置された照射システムと;マスクを保持するように構成された第1の物体テーブルと;基板を保持するように構成された第2の物体テーブルと;前記マスクの照射部分を前記基板の対象部分上に結像するように構成および配置された投影システムと;を備え、前記投影ビームが横断する領域に、気体をイオン化するためのイオン化手段を備えた汚染物質バリアを設けることを特徴とする、リソグラフィ投影装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B03C 3/38 , G03F 7/20 521 , H01J 27/02 , H01J 37/08

FI (7件)：

B03C 3/38 , G03F 7/20 521 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01L 21/30 531 Z , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 503 G

Fターム (15件)：

4D054AA20 , 4D054BB05 , 4D054BB24 , 4D054BC02 , 4D054EA01 , 5C030DD01 , 5C030DD04 , 5C030DE05 , 5C030DE07 , 5C030DE09 , 5F046AA22 , 5F046GA07 , 5F046GA20 , 5F046GB02 , 5F046GB09

引用特許：

出願人引用 (7件)

レーザプラズマX線源
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-027301 出願人：株式会社日立製作所
特開昭62-268048
特開昭56-116622

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審査官引用 (8件)

レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024731 出願人：株式会社日立製作所
特開昭62-268048
特開平2-102725

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