放射源と放射源からの放射を処理する処理機構とを含む遠紫外線リソグラフィに適した装置、ならびに放射源から放射された望ましくない原子および微小粒子を抑制するためのフィルタ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-532779
公開番号（公開出願番号）：特表2002-504746
出願日： 1999年02月19日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】本発明は、放射線源と、放射線源からの放射を処理する処理機構とを含む、例えば極紫外線リソグラフィに適した装置に関する。放射線源と処理機構の間には、放射線源から径方向に複数のフォイルまたはプレートを含むフィルタが配置される。

請求項（抜粋）：

放射源と、放射源からの放射を処理する処理機構とを含む、例えば遠紫外線リソグラフィに適した装置であって、放射源と処理機構の間に、放射源から径方向に複数のフォイルまたはプレートを含むフィルタが配置されることを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

Fターム (5件)：

5F046CA03 , 5F046CA08 , 5F046CB08 , 5F046GB07 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (8件)

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審査官引用 (11件)

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