特許
J-GLOBAL ID:200903013363140777
照射計画方法、装置、粒子線照射システム、及び、これらに用いるコンピュータプログラム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
高矢 諭
, 松山 圭佑
, 牧野 剛博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-322939
公開番号(公開出願番号):特開2008-136523
出願日: 2006年11月30日
公開日(公表日): 2008年06月19日
要約:
【課題】ターゲットでの平坦で一様な線量分布を保障しつつ、照射時間を短縮し、照射対象の負担を軽減できるようにする。【解決手段】加速器22から出射した荷電粒子ビーム2を照射装置30により照射対象6に照射する粒子線照射システム20の照射パラメータを決定する照射計画方法において、前記粒子線照射システムに起因する照射誤差を推定し、該推定した照射誤差も加味して照射パラメータを決定する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加速器から出射した荷電粒子ビームを照射装置により照射対象に照射する粒子線照射システムの照射パラメータを決定する照射計画方法において、
前記粒子線照射システムに起因する照射誤差を推定し、
該推定した照射誤差も加味して照射パラメータを決定することを特徴とする照射計画方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (10件):
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG02
, 4C082AG09
, 4C082AN02
, 4C082AN04
, 4C082AN05
, 4C082AP03
, 4C082AR02
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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