特許
J-GLOBAL ID:200903013373385271
モールドおよび表面に微細パターンを有する物品
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-012760
公開番号(公開出願番号):特開2006-198883
出願日: 2005年01月20日
公開日(公表日): 2006年08月03日
要約:
【課題】微細パターンを形成するために有用なモールド、および該モールドを用いて製造された表面に微細パターンを有する物品を提供する。【解決手段】表面に微細パターンを有し、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、フルオロアクリレートおよびフルオロメタアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のフルオロモノマーに基づく繰り返し単位を含む含フッ素重合体の0.1質量%以上を含有するモールド。たとえば、該モールドを熱可塑性樹脂に熱圧着させて該モールドの微細パターンを該熱可塑性樹脂に形成する工程および該モールドを該熱可塑性樹脂から離脱させる工程を具備する方法で製造された表面に微細パターンを有する熱可塑性樹脂。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表面に微細パターンを有し、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、フルオロアクリレートおよびフルオロメタアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のフルオロモノマーに基づく繰り返し単位を含む含フッ素重合体の0.1質量%以上を含有することを特徴とするモールド。
IPC (3件):
B29C 33/38
, B29C 33/58
, H01L 21/027
FI (3件):
B29C33/38
, B29C33/58
, H01L21/30 502D
Fターム (13件):
4F202AA44
, 4F202AJ02
, 4F202AJ03
, 4F202AJ07
, 4F202AJ09
, 4F202AJ11
, 4F202CA01
, 4F202CA17
, 4F202CD07
, 4F202CD08
, 4F202CD23
, 4F202CM47
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (2件)
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流体圧力インプリント・リソグラフィ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2002-513006
出願人:ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
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段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-604271
出願人:ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム
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