特許
J-GLOBAL ID：200903013534084943

反射防止フィルムおよびその製造方法並びに画像表示装置

発明者：
大林 達彦

大林 達彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044275
公開番号（公開出願番号）：特開2002-243905
出願日： 2001年02月20日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：
【要約】【課題】 高屈折率支持体上にウエット塗布により生産性よく強度に優れる低屈折率のポリシロキサン皮膜を形成し、廉価で十分な反射防止性能および耐擦傷性を有する反射防止フィルム及びその製造方法並びにこの反射防止フィルムを用いた表示装置を提供する。【解決手段】 ポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有する反射防止フィルムにおいて、該ポリシロキサンが、ケイ素原子上の4つの結合のうちの2以下の結合がそのケイ素原子からみて-O-Siと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の70%以上を占め、かつ、化学構造中にアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量400以上のポリシロキサンである反射防止フィルム及びその製造方法、並びにこの反射防止フィルムを配置してなる表示装置。
請求項（抜粋）：
ポリシロキサンを含有する塗布液組成物を支持体上に塗設して形成された低屈折率層を有する反射防止フィルムにおいて、該ポリシロキサンが、ケイ素原子上の4つの結合のうちの2以下の結合がそのケイ素原子からみて-O-Siと続く結合であるケイ素原子が全ケイ素原子数の70%以上を占め、かつ、化学構造中にアルコキシ基を少なくとも一つ有する、分子量400以上のポリシロキサンであることを特徴とする反射防止フィルム。
IPC (5件)：
G02B 1/11 ,  B32B 27/00 101 ,  C08G 77/24 ,  C08J 7/04 CEP ,  C08L101:00
FI (5件)：
B32B 27/00 101 ,  C08G 77/24 ,  C08J 7/04 CEP Z ,  C08L101:00 ,  G02B 1/10 A
Fターム (39件)：
2K009AA05 ,  2K009AA06 ,  2K009AA07 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  4F006AA02 ,  4F006AA12 ,  4F006AA15 ,  4F006AA22 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA38 ,  4F006AB39 ,  4F006BA14 ,  4F006CA00 ,  4F006DA04 ,  4F100AJ04 ,  4F100AJ08 ,  4F100AK52A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46A ,  4F100EH462 ,  4F100GB48 ,  4F100JA07A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18A ,  4F100YY00A ,  4J035BA02 ,  4J035CA061 ,  4J035CA151 ,  4J035LA03
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM