特許

J-GLOBAL ID：200903030522391710

光学機能性膜及びその製造方法

発明者： 高橋 伸子 ,  吉原 俊夫 ,  太田 友里恵 ,  国峯 昇
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252493
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089001
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 SiO2ゲル層の基材フィルムへの密着性が改良され、高機能且つ高品質な特性や生産性を維持し、且つ実用に耐え得る機能性膜の提供。【解決手段】 基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成してなり、該低屈折率層が、少なくとも2種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルをゲル化したSiO2ゲル層であることを特徴とする光学機能性膜及びその製造方法。

請求項（抜粋）：

基材フィルム面に、直接又は他の層を介して低屈折率層を形成してなり、該低屈折率層が、少なくとも2種以上の珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルをゲル化したSiO2ゲル層であることを特徴とする光学機能性膜。

IPC (9件)：

G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/06 CFD ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/26 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/00 ,  G02B 5/22 ,  C08L 83:00

FI (8件)：

G02B 1/10 A ,  B32B 9/00 A ,  C08J 7/06 CFD Z ,  G02B 5/26 ,  C09D 1/00 ,  C09D183/00 ,  G02B 5/22 ,  G02B 1/10 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 低反射積層体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318131   出願人：帝人株式会社
• 反射防止フイルム及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-177508   出願人：大日本印刷株式会社
• 光学機能性膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-048595   出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (2件)

• 低反射積層体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318131   出願人：帝人株式会社
• 反射防止フイルム及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-177508   出願人：大日本印刷株式会社