高感度でエバネッセント場を検出する表面構造を有するサポート

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：杉村興作 , 徳永博 , 岩佐義幸 , 藤谷史朗 , 来間清志 , 冨田和幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-516683
公開番号（公開出願番号）：特表2007-516413
出願日： 2004年06月14日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

本発明は、一つの表面のエバネッセント場(5)内で少なくとも一つの光学活性物質を検出する表面構造を有し、これによって、表面構造が、表面構造に隣接する媒体(2)にエバネッセント場(5)を発生することができるサポート(1)、特に、光ディスクに関する。表面構造は、サポート(1)の表面の一般的な向きに対して傾斜した(αエッジ)サポート(1)の表面の一つ以上の区分を具える。また、本発明は、表面構造を有するそのようなサポート(1)、特に光ディスクを用いる装置、表面構造を有するサポート(1)及び装置の使用に関する。

請求項（抜粋）：

表面に形成されたエバネッセント場内の光学活性物質を検出するほぼ平行な二つの表面を具えるサポートであって、少なくとも一つの領域において、前記表面の平面が、前記サポートの平面に対して10°から85°の角度αwedgeだけ傾斜していることを特徴とするサポート。

IPC (4件)：

G01N 21/27 , G01N 21/01 , G01N 33/543 , G01N 21/64

FI (5件)：

G01N21/27 C , G01N21/01 B , G01N33/543 595 , G01N21/64 F , G01N21/64 G

Fターム (25件)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043DA02 , 2G043DA06 , 2G043EA01 , 2G043GA07 , 2G043GB01 , 2G043GB03 , 2G043GB05 , 2G043HA01 , 2G043HA09 , 2G043KA07 , 2G043KA09 , 2G043LA01 , 2G059AA01 , 2G059BB12 , 2G059BB13 , 2G059CC16 , 2G059CC17 , 2G059DD13 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059GG01 , 2G059JJ11 , 2G059KK01

引用特許：

審査官引用 (4件)

測定プレート
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-340810 出願人：富士写真フイルム株式会社
表面プラズモン共鳴センサ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-263283 出願人：三菱重工業株式会社
全反射減衰を利用したセンサーおよび測定チップアセンブリ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-085970 出願人：富士写真フイルム株式会社

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