特許
J-GLOBAL ID：200903013563568283

合成シリカガラス及びその製造方法

発明者：
葛 生 伸

葛 生 伸 について


出願人/特許権者：
日本石英硝子株式会社

日本石英硝子株式会社 について

, 
山口日本石英株式会社

山口日本石英株式会社 について


代理人 (1件)： 浅野 豊司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-354751
公開番号（公開出願番号）：特開平6-183752
出願日： 1992年12月17日
公開日（公表日）： 1994年07月05日
要約：
【要約】【構成】 四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解し、気相中でシリカの多孔質体を形成したのち、その多孔質体を高温で熱処理することにより透明ガラス化して得たOH基を50〜250ppm含有するシリカガラスを、さらに不活性気体中または真空中で800〜2000°Cで加熱処理することを特徴とする合成シリカガラスの製造方法。【効果】 OH基を有するスート法シリカガラスの難点を克服し、波長が300nm以下の紫外線照射、スパッタリング、ドライエッチングにより吸収が生じることなく、かつ650、280〜300、400、450nm付近にピークをもつ発光、吸収を防止することができる。
請求項（抜粋）：
OH基を有するスート法シリカガラスを不活性ガス中又は真空中で熱処理してなる、波長が300nm以下の紫外線照射、スパッタリング、ドライエッチングにより吸収が生じることなく、かつ650、280〜300、400、450nm付近にピークをもつ発光が生じない合成シリカガラス。
IPC (2件)：
C03B 8/04 ,  C03B 20/00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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