特許

J-GLOBAL ID：200903013574664667

化学的機械研磨装置

発明者： 村上 聡志 ,  渡辺 友治 ,  加藤 信広
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-285629
公開番号（公開出願番号）：特開平11-114810
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】【課題】 研磨布と基板との吸着を防止することにより、研磨終了後、スムーズに研磨布から基板を離脱することができる化学的機械研磨装置を提供することである。【解決手段】 化学的機械研磨装置であって、研磨終了後に研磨布3から基板11を離脱する際、研磨布3に設けられた複数のエアー吹き穴15を通してテーブル1側から基板11の被加工面と研磨布3との間に気体を導入することのできる気体供給系を備えたものである。

請求項（抜粋）：

表面に研磨布が固定され、回転可能なテーブルと、前記テーブルに対向する状態で回転可能な基板保持部を有し、該基板保持部で基板を保持しつつ、該基板の被加工面を前記研磨布に圧接する基板保持機構と、前記研磨布に設けられた孔を有し、該孔を通して前記テーブル側から前記基板の被加工面と前記研磨布との間に気体を導入する気体供給系とを具備することを特徴とする化学的機械研磨装置。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/304 321

FI (4件)：

B24B 37/00 Z ,  B24B 37/00 C ,  B24B 37/04 A ,  H01L 21/304 321 E

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 研磨装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-250620   出願人：日本電気株式会社
• ポリッシング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-256522   出願人：株式会社荏原製作所