特許
J-GLOBAL ID:200903013594067568

保護膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木 秀人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-306503
公開番号(公開出願番号):特開平10-147876
出願日: 1996年11月18日
公開日(公表日): 1998年06月02日
要約:
【要約】【課題】 広範囲なアルミニウム蒸着膜の上に均一厚の保護膜を形成できる保護膜形成方法の提供。【解決手段】 合成樹脂製基材Wの表面に形成されたアルミニウム蒸着膜32の上にシリコーン系保護膜34を形成する方法において、表面にアルミニウム蒸着膜32を形成した基材WをチャンバC内に収容し、基材Wと正対し基材と略同等の面積を占めるように複数の高周波誘導放電式プラズマ源40をチャンバCに並設し、前記プラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバC内に蒸気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム蒸着膜32の上にプラズマ重合膜34を形成するようにしたもので、プラズマ源40を並設することで、保護膜形成領域Aが拡大され、この領域A内に配置された基材(のアルミニウム蒸着膜32)の上に保護膜であるプラズマ重合膜34が均一な膜厚に形成される。
請求項(抜粋):
合成樹脂製基材の表面に形成されたアルミニウム蒸着膜の上に、シリコーン系保護膜を形成する方法において、表面にアルミニウム蒸着膜を形成した基材をチャンバ内に収容し、基材と正対し基材と略同等の面積を占めるように、複数の高周波誘導放電式プラズマ源を並設し、前記プラズマ源によってプラズマ状態にしたチャンバ内に蒸気状シリコーン系オイルを導入して、アルミニウム蒸着膜の上にシリコーンプラズマ重合膜を形成することを特徴とする保護膜形成方法。
IPC (4件):
C23C 16/50 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 14/14 ,  H01L 21/31
FI (4件):
C23C 16/50 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 14/14 D ,  H01L 21/31 C
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭52-026382
  • 特開昭59-153881
  • 特開平4-323375
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