特許
J-GLOBAL ID：200903013599736018
プラズマ処理装置
出願人/特許権者：
アネルバ株式会社
アネルバ株式会社 について
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-306954
公開番号（公開出願番号）：特開平8-138888
出願日： 1994年11月16日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】 占有体積が小さく、大面積にわたり均一性の良好なプラズマを発生し、被処理基板の大口径化に容易に対応できるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 高周波電力を導入するための窓部22を備えた基板処理用容器31と、窓部の外側に配置されるアンテナ32と、アンテナに電力を供給する整合回路23を備え、アンテナは複数の電流通路33を含み、複数の電流通路のそれぞれによって生成される振動磁場37が窓部に実質的に平行になるように構成される。複数の電流通路は並列に配置され、さらに好ましくは互いに平行にまたは放射状に配置される。
請求項（抜粋）：
周波数を有する電力を内部に導入するための窓部を備えた基板処理用容器と、前記窓部の外側に配置される電力放射手段と、前記電力放射手段に前記電力を供給する電力供給手段とを備えるプラズマ処理装置において、前記電力放射手段は前記電力を分割して通電する複数の分岐通電部を含み、前記複数の分岐通電部のそれぞれによって生成される振動磁場が前記窓部に実質的に平行になるようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
引用特許：
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