特許
J-GLOBAL ID:200903013608445226

プラズマディスプレイパネルの保護膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-351915
公開番号(公開出願番号):特開2004-134407
出願日: 2003年10月10日
公開日(公表日): 2004年04月30日
要約:
【課題】本発明はアドレス期間のジッタ値を減らすようにしたプラズマディスプレイパネルの保護膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明プラズマディスプレイパネルの保護膜及びその製造方法は酸化マグネシウム(MgO)を主成分にしてシリコン(Si)が500ppm以下添加された保護膜をプラズマディスプレイパネルに形成する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
酸化マグネシウム(MgO)を主成分として、シリコン(Si)が500ppm以下添加されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの保護膜。
IPC (2件):
H01J11/02 ,  H01J9/02
FI (2件):
H01J11/02 B ,  H01J9/02 F
Fターム (9件):
5C027AA07 ,  5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GE07 ,  5C040GE08 ,  5C040GE09 ,  5C040JA07
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 日本公開特許公報2001-135238号
審査官引用 (5件)
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