特許

J-GLOBAL ID：200903013678897353

液体気化供給器及びこれを用いた液体気化供給装置

発明者： 小野 弘文
出願人/特許権者： 株式会社リンテック
代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-270050
公開番号（公開出願番号）：特開2005-026599
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】 気化室内にて液体原料が熱分解等するのを抑止できる液体気化供給器及びそれを用いた液体気化供給装置を提供する。【解決手段】 液体原料噴射ノズル56aの周囲を取り囲むようにキャリアガス噴射ノズル56bが形成されるので、気化室36の内側面36cと液体原料噴射ノズル56aから噴射された液体原料Lとの間にキャリアガス層が形成される。したがって、液体原料噴射ノズル56aから噴射された液体原料Lが飛散等して、気化室36の内側面等に付着することがなく、気化室36を構成する金属の触媒作用により液体原料Lの熱分解等の進行が促進されることはない。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

液体原料を気化する気化室を有する気化部と、前記気化室内に液体原料及びキャリアガスを噴射する噴射ノズルを有する噴射部と、前記噴射部に供給する液体原料の質量流量を調整する液体原料質量流量制御部とを備える液体気化供給器であって、 前記噴射ノズルは、液体原料を噴射する液体原料噴射ノズルと、前記液体原料噴射ノズルの周囲を取り囲むように設けられ、前記気化室の内側面に沿ってキャリアガスを噴射するキャリアガス噴射ノズルとで構成されていることを特徴とする液体気化供給器。

IPC (2件)：

H01L21/31 ,  C23C16/448

FI (2件)：

H01L21/31 B ,  C23C16/448

Fターム (16件)：

4K030AA11 ,  4K030BA17 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030JA05 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC09 ,  5F045EE02 ,  5F045EE04 ,  5F045EE05 ,  5F045EE13 ,  5F045EE17 ,  5F045EE20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 気化器及びこれを用いた半導体製造システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-271920   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社リンテック

審査官引用 (1件)

• 化学気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-295167   出願人：三菱電機株式会社