荷電粒子線転写装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066098
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260248
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】転写対象の基板を機械的に走査しながらマスクパターンを転写する場合に、その基板の表面に急激な凹凸の変化があってもその表面をマスクパターンの結像面に正確に合わせ込んで転写を行う。【解決手段】マスクM及びウエハWをX方向に相対的に走査しながら、電子線EBのもとでマスクMのパターンを投影レンズ13及び対物レンズ14を介してウエハW上に転写する。ウエハWの走査方向に対して先行する領域のZ方向の位置をフォーカス位置検出センサ24によって検出し、検出結果に基づいてアクチュエータ19A,19Bで機械的にウエハWのZ方向の位置を補正するか、又は投影レンズ13及び対物レンズ14に供給する駆動電流を制御して結像面の位置を補正する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンの荷電粒子線による像を転写対象の基板上に形成する投影手段と、前記基板を移動する基板ステージとを有し、該基板ステージを介して前記基板を所定方向に移動しながら前記マスク上のパターンを逐次前記投影手段を介して前記基板上に転写する荷電粒子線転写装置において、前記基板上で前記投影手段による転写領域の中心から前記所定方向に所定距離だけ先行した未転写領域の高さを計測する高さ先読み手段と、該高さ先読み手段の計測値に基づいて、前記投影手段による結像面の高さと前記基板の表面の高さとを相対的に補正して、前記基板の表面を前記結像面に合わせ込む高さ補正手段と、を備えたことを特徴とする荷電粒子線転写装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (4件)：

H01L 21/30 541 J , G03F 7/20 504 , H01L 21/30 541 F , H01L 21/30 541 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-206608
荷電粒子線転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-324391 出願人：株式会社ニコン
走査露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-201947 出願人：株式会社ニコン

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