荷電粒子線転写装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-324391
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183191
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】マスクと試料とを連続移動させても、試料上の正規のパターン転写位置に正確にパターンを転写できる転写装置を提供する。【構成】マスク4および試料10を互いに同期した速度で連続移動させつつマスク4の特定領域へ荷電粒子線を照射してその領域に形成されたパターンを試料10に転写する荷電粒子線転写装置において、マスク4および試料10の特定方向への移動速度を検出する検出手段17,21と、転写開始時刻における試料10上の正規のパターン転写位置と試料上に導かれるパターンの像との特定方向へのずれ量を検出手段が17,21検出した移動速度に基づいて予測するずれ量予測器18と、ずれ量予測器18の予測結果に基づいて、試料10に実際に転写されるパターンの特定方向の転写位置を補正する転写位置補正器6とを備える。

請求項（抜粋）：

マスクおよび試料を互いに同期した速度で連続移動させつつ前記マスクの特定領域へ荷電粒子線を照射してその領域に形成されたパターンを前記試料に転写する荷電粒子線転写装置において、前記マスクおよび前記試料の特定方向への移動速度を検出する検出手段と、転写開始時刻における前記試料上の正規のパターン転写位置と前記試料上に導かれる前記パターンの像との前記特定方向へのずれ量を前記検出手段が検出した移動速度に基づいて予測するずれ量予測手段と、前記ずれ量予測手段の予測結果に基づいて、前記試料に実際に転写されるパターンの前記特定方向の転写位置を補正する転写位置補正手段と、を備えることを特徴とする荷電粒子線転写装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S , H01L 21/30 541 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭61-283121
荷電粒子線露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-209067 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
特開昭57-053938

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