特許

J-GLOBAL ID：200903013782543547

電子材料用洗浄水及び電子材料の洗浄方法

発明者： 井田 純一 ,  森田 博志
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-017120
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216130
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの電子材料の表面に付着した不純物、特に微粒子を、ウェット洗浄により効果的に除去することができる電子材料用洗浄水及び電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】超純水にアルゴンを10mg/リットル以上溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄水、及び、電子材料を、超音波を照射しながら、アルゴン10mg/リットル以上を含有する洗浄水により洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

超純水にアルゴンを10mg/リットル以上溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (2件)：

H01L 21/304 647 ,  C11D 7/02

FI (2件)：

H01L 21/304 647 Z ,  C11D 7/02

Fターム (7件)：

4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003DC04 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003FA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板洗浄装置、洗浄方法およびその方法を用いて製造した半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-148094   出願人：株式会社東芝
• 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-237294   出願人：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック