特許
J-GLOBAL ID：200903092914412401

基板洗浄装置、洗浄方法およびその方法を用いて製造した半導体装置

発明者：
西木 一広

西木 一広 について

, 
宮崎 邦浩

宮崎 邦浩 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-148094
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335294
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 基板への自然酸化膜発生の防止のために、あらかじめ真空脱気等により洗浄液中の溶存酸素及び他の溶存ガスを低下させた状態での超音波洗浄において、基板のパーティクル除去率向上を図ることである。【解決手段】 基板の洗浄を行う洗浄槽21と、洗浄槽21に洗浄液を供給する洗浄液供給手段22と、洗浄液に超音波振動を伝達させる超音波振動発生手段25と、洗浄液面上を含む領域を減圧する減圧発生手段32と、洗浄液面上を含む領域を包囲して減圧状態を維持するシールド31とを具備し、洗浄液面上を含む領域を減圧しながら、基板の超音波洗浄を行うものである。
請求項（抜粋）：
基板の洗浄を行う洗浄槽と、該洗浄槽に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄液に超音波振動を伝達させる超音波振動発生手段と、前記洗浄液面上を含む領域を減圧する減圧発生手段と、前記洗浄液面上を含む領域を包囲して減圧状態を維持するシールドとを少なくとも具備することを特徴とする基板洗浄装置。
引用特許：
審査官引用 (5件)
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