特許
J-GLOBAL ID:200903013820926757
リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-271438
公開番号(公開出願番号):特開2005-029849
出願日: 2003年07月07日
公開日(公表日): 2005年02月03日
要約:
【課題】 加熱環境下においても表面平滑性に優れ、高い反射率を示すリフレクター用Ag合金反射膜およびリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 (1) 表面粗さRaが2.0nm 以下であることを特徴とするリフレクター用Ag合金反射膜、(2) 前記Ag合金反射膜において希土類元素(Nd等)を合計で0.1 〜3.0 原子%、あるいは更にAu、Pd、Cu、Ptの1種以上を合計で0.5 〜5.0 原子%含有するもの、(3) 前記Ag合金反射膜が基体上に形成されているリフレクター、(4) 前記Ag合金反射膜を形成するために用いられるAg合金スパッタリングターゲットであって、希土類元素を合計で0.1 〜3.0 原子%、あるいは更にAu、Pd、Cu、Ptの1種以上を合計で0.5 〜5.0 原子%含有するもの等。【選択図】 図なし
請求項(抜粋):
表面粗さRaが2.0nm 以下であることを特徴とするリフレクター用Ag合金反射膜。
IPC (8件):
C23C14/06
, C22C5/06
, C23C14/34
, F21S8/10
, F21V7/00
, F21V7/22
, F21V17/00
, G02B1/10
FI (6件):
C23C14/06 R
, C22C5/06 Z
, C23C14/34 A
, F21V7/22 C
, F21M3/02 E
, G02B1/10 Z
Fターム (14件):
2K009AA00
, 2K009BB02
, 2K009CC14
, 2K009DD04
, 3K042AA08
, 3K042AB02
, 4K029BA04
, 4K029BA22
, 4K029BD09
, 4K029DA08
, 4K029DC04
, 4K029EA01
, 4K029EA08
, 4K029FA07
引用特許: