露光装置および方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-014779
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186074
出願日： 1996年01月04日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】より効率的かつ低コストで半導体チップが製造できるような半導体露光装置を提供する。【解決手段】パルス光1で原板9を照明し、原板と基板11を移動させながら原板のパターンを基板上に露光転写するスキャン型の露光装置において、各パルス光発光前の露光状態を検出する手段12,15と、前記露光状態に基づいて露光不良の領域が発生するか否かを判定する情報処理手段104と、露光不良の領域が発生すると判断された場合パルス発光を停止する制御手段とを具備する。

請求項（抜粋）：

パルス光で原板を照明し、原板と基板を移動させながら原板のパターンを基板上に露光転写するスキャン型の露光装置において、各パルス光発光前の露光状態を検出する手段と、前記露光状態に基づいて露光不良の領域が発生するか否かを判定する情報処理手段と、露光不良の領域が発生すると判断された場合パルス発光を停止する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 518 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 516 C , H01L 21/30 525 X

引用特許：

出願人引用 (7件)

露光方法及び該露光方法を用いるデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-276941 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-193638 出願人：株式会社ニコン
露光制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-035248 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (7件)

露光方法及び該露光方法を用いるデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-276941 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-193638 出願人：株式会社ニコン
露光制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-035248 出願人：株式会社ニコン

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