ターンテーブル装置の姿勢制御装置を備えたポリッシング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066070
公開番号（公開出願番号）：特開2000-317824
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】トップリングにより保持されターンテーブルの研磨面に押し付けられて研磨される基板を、研磨面から加えられる接触(研磨)圧力が、その全面にわたって均一になるようにする。【解決手段】ターンテーブルを傾動可能に支持する支持部43と、ターンテーブルの姿勢を制御する姿勢制御手段45とを設けたことを特徴とする。姿勢制御手段は、電磁力によってターンテーブルの傾斜角度を制御するものとすることができる。この電磁力による姿勢制御装置は、当該ポリッシング装置の静止フレームに固定された電磁石装置45と、ターンテーブルに固定され、電磁石装置の磁力により動かされるアーマチャー14とを有するものとすることができる。

請求項（抜粋）：

研磨面を有するターンテーブルと、ポリッシング対象物である基板を保持してターンテーブル上の研磨面に押圧する基板保持装置とを備えたポリッシング装置において、前記ターンテーブルを傾動可能に支持する支持部と、前記ターンテーブルの姿勢を制御する姿勢制御手段とを設けたことを特徴とするポリッシング装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , B24B 37/00 , H01L 21/304 621

FI (3件)：

B24B 37/04 G , B24B 37/00 B , H01L 21/304 621 B

Fターム (11件)：

3C058AA07 , 3C058AA11 , 3C058AA14 , 3C058AC02 , 3C058BA07 , 3C058BB02 , 3C058BB03 , 3C058BB04 , 3C058BC02 , 3C058CB01 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

研削/研磨方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-127400 出願人：株式会社岡本工作機械製作所
ポリッシング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-155946 出願人：株式会社荏原製作所
特開平2-257628

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