特許
J-GLOBAL ID：200903013997185781

半導体レーザ装置及びそれを用いた光印刷装置

発明者：
中塚 慎一

中塚 慎一 について

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丸尾 成司

丸尾 成司 について

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小林 信也

小林 信也 について

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有本 昭

有本 昭 について

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斉藤 進

斉藤 進 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について

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日立工機株式会社

日立工機株式会社 について


代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-172625
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074251
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【課題】光印刷のときに、光出力変調による印刷ドット径の制御を安定に行うことのできる半導体レーザ装置を提供すること。【解決手段】導電型の異なる2層の半導体層と、これに挟まれ、かつ、この2層の半導体層よりも狭い禁制帯幅を有する半導体層よりなる活性層と、活性層に平行な面内に光を閉じ込める導波路を有し、レーザ端面におけるビーム形状を制御するために、上記導波路を幅の狭い領域113と幅の広い領域114から構成した半導体レーザ装置。幅の狭い領域113と幅の広い領域114の間に、中間幅の領域を設けてもよい。
請求項（抜粋）：
導電型の異なる2層の半導体層と、これに挟まれ、かつ、該2層の半導体層よりも狭い禁制帯幅を有する半導体層よりなる活性層と、該活性層に平行な面内に光を閉じ込める導波路を有する半導体レーザ装置において、レーザ端面におけるビーム形状の光密度が、上記導波路の中心線から横方向に実質的に直線的に変化するように、上記導波路を構成したことを特徴とする半導体レーザ装置。
IPC (3件)：
H01S 3/18 ,  B41J 2/44 ,  G11B 7/125
FI (3件)：
H01S 3/18 ,  G11B 7/125 A ,  B41J 3/00 D
引用特許：
審査官引用 (15件)
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