特許
J-GLOBAL ID:200903014131945937
EUVフォトリソグラフィ用の反射投影レンズ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田辺 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-218003
公開番号(公開出願番号):特開2003-177319
出願日: 2002年07月26日
公開日(公表日): 2003年06月27日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】極遠紫外線(EUV)領域の電磁放射を用いて物体平面上に配置されたパターンを像平面上に結像する投影レンズを提供する。【解決手段】投影レンズの光軸を定めると共に反射コーティングを有する幾つかの結像鏡を物体平面および像平面間に備えた投影レンズが開示されている。これらの鏡の少なくとも1つが、コーティング軸に関して回転対称であるフィルム厚さ勾配を有する漸変反射コーティングを有しており、コーティング軸は、投影レンズの光軸に対して非中心性配置されている。少なくとも1つの非中心性漸変反射コーティングを用いることによって、高い全透過率と組み合わせて非常に均一な視野照明が可能な投影レンズを構成することができる。
請求項(抜粋):
極遠紫外線(EUV)領域の電磁放射を用いて物体平面上に配置されたパターンを像平面上に結像する投影レンズであって、反射コーティングを有して投影レンズの光軸を定める幾つかの結像鏡が、物体平面および像平面間に配置されており、該鏡の少なくとも1つが、コーティング軸に関して回転対称であるフィルム厚さ勾配を有する非中心性漸変反射コーティングを有しており、前記コーティング軸は、前記光軸に対して非中心性配置されている投影レンズ。
IPC (4件):
G02B 17/00
, G02B 27/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
FI (4件):
G02B 17/00 A
, G02B 27/18
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 531 A
Fターム (4件):
2H087KA21
, 2H087TA02
, 5F046GB01
, 5F046GB02
引用特許:
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