マイクロリソグラフィー縮小用対物レンズおよび投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邊隆 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-033981
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235144
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】短波長でのリソグラフィーに適した投影用対物レンズの提供。【解決手段】好ましくは100nm以下といったような短波長マイクロリソグラフィーにおいて使用するための投影用対物レンズであって、イメージ側での開口数(NA)がNA≧0.15であるようにして配置された6個のミラー、つまり、第1ミラーS1〜第6ミラーS6を具備してなり、ウェーハ面4に対して最も近い位置に配置された第5ミラーS5が、ウェーハ面に対して所定距離だけ離間して配置されている。

請求項（抜粋）：

好ましくは100nm以下といったような短波長マイクロリソグラフィーにおいて使用するための投影用対物レンズであって、イメージ側での開口数(NA)がNA≧0.15であるようにして配置された6個のミラー、つまり、第1ミラー(S1)と、第2ミラー(S2)と、第3ミラー(S3)と、第4ミラー(S4)と、好ましくはウェーハに対して最も近い位置に配置された第5ミラー(S5)と、第6ミラー(S6)と、を具備してなり、前記第5ミラーが、イメージ側における光学的にフリーな動作距離が、前記第5ミラーの直径D以上であるという条件と、イメージ側における光学的にフリーな動作距離が、前記第5ミラーの直径Dの3分の1と、20mm〜30mmの範囲の長さと、の和以上であるという条件と、イメージ側における光学的にフリーな動作距離が、50mm以上、好ましくは60mmであるという条件と、のうちの少なくとも1つの条件を満たすようにして配置されていることを特徴とする投影用対物レンズ。

IPC (4件)：

G02B 11/00 , G02B 13/24 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 11/00 , G02B 13/24 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 515 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

射影リソグラフィー光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-113727 出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
高開口数リングフィールド光学縮小系
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-330929 出願人：エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド
特開平3-103809

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