特許
J-GLOBAL ID：200903056603359942
微細パターン転写方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-142588
公開番号（公開出願番号）：特開平9-326347
出願日： 1996年06月05日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】多層膜反射を用いたX線結像光学系において、パターンの制御性やスループットを向上させるために、瞳内部で振幅反射率を均一にする。【解決手段】結像光学系を構成する凸面鏡と凹面鏡上の多層膜周期長を中心部で最大,周辺部で最小となるように成膜する。
請求項（抜粋）：
X線あるいは真空紫外あるいは極紫外領域のビームを照明光学系を介して第1の基板上に照明し、上記第1の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して、第2の基板上に縮小転写させる微細パターン転写方法において、上記照明光学系と上記結像光学系を構成する多層膜反射鏡のうち少なくとも一つが、上記多層膜反射鏡の面内で反射率分布を有することを特徴とする微細パターン転写方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 531 E
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 531 A
