シリコン含有排ガスの触媒燃焼式浄化装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉岡宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206890
公開番号（公開出願番号）：特開2004-049939
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】有機シリコンを含む排ガスを触媒燃焼させる場合に、シリコンが燃焼触媒層の表面に付着するのを回避する。【解決手段】蓄熱槽10に連通路22を介して連通される燃焼触媒層12と、蓄熱槽14に連通路23を介して連通される燃焼触媒層16と、2つの蓄熱槽を排ガスの供給流路36と燃焼ガスの排出流路37とに交互に切り替えて連通される給排流路切替弁18と、2つの燃焼触媒層12、16に連通する加熱室17と、連通路22、23から分岐され、各連通路と加熱室とを連結する2つのバイパス流路20、24と、各連通路22、23を対応する燃焼触媒層12、16とバイパス流路20、24のいずれか一方に連通させる2つの流路切替弁26、28とを備えて構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第1の蓄熱槽と、第1の蓄熱槽に第1の連通路を介して連通される第1の燃焼触媒層と、第2の蓄熱槽と、第2の蓄熱槽に第2の連通路を介して連通される第2の燃焼触媒層と、第1と第2の蓄熱槽を排ガスの供給流路と燃焼ガスの排出流路とに交互に切り替えて連通される給排流路切替弁と、第1と第2の燃焼触媒層に連通する加熱室と、第1の連通路から分岐され、該第1の連通路と前記加熱室とを連結する第1のバイパス流路と、第2の連通路から分岐され、該第2の連通路と前記加熱室とを連結する第2のバイパス流路と、第1の連通路を前記第1の燃焼触媒層と第1のバイパス流路のいずれか一方に連通させる第1の流路切替弁と、第2の連通路を前記第1の燃焼触媒層と第2のバイパス流路のいずれか一方に連通させる第2の流路切替弁とを備えてなるシリコン含有排ガスの触媒燃焼式浄化装置。

IPC (2件)：

B01D53/86 , F23G7/06

FI (6件)：

B01D53/36 G , F23G7/06 Z , F23G7/06 102Q , F23G7/06 102S , F23G7/06 102V , F23G7/06 103

Fターム (20件)：

3K078AA04 , 3K078AA08 , 3K078BA20 , 3K078DA24 , 3K078DA32 , 4D048AA17 , 4D048AB01 , 4D048BA11X , 4D048BA30X , 4D048BB02 , 4D048CC25 , 4D048CC26 , 4D048CC32 , 4D048CC51 , 4D048DA01 , 4D048DA02 , 4D048DA03 , 4D048DA05 , 4D048DA06 , 4D048DA13

引用特許：

審査官引用 (5件)

蓄熱式排ガス処理装置による排ガス処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-247496 出願人：中外炉工業株式会社
蓄熱式脱臭装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-198933 出願人：中外炉工業株式会社
蓄熱式脱臭装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-268779 出願人：中外炉工業株式会社

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