特許

J-GLOBAL ID：200903014314798216

超微粒子分散膜の製造方法及び製造装置

発明者： 石井 清 ,  濱欠 裕貴 ,  隅山 兼治
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252494
公開番号（公開出願番号）：特開2000-087233
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】【目的】 超微粒子が均一分散した薄膜を安定条件下で得る。【構成】 同じ真空室10に配置されているスパッタ源20,30から複数種の蒸気を発生させ、第1の蒸気を超微粒子に凝縮させた後、他の蒸気と筒状案内部11で相互に拡散混合しながら、同じ真空室10に配置されている基板Sの表面に導き蒸着させる。超微粒子及びマトリックスの蒸気は、筒状案内部11を通過する際に相互拡散し、均質化されたガス流となって基板S表面に導かれる。【効果】 ナノメータオーダーの超微粒子がマトリックスに均一分散した超微粒子分散膜が得られる。

請求項（抜粋）：

同じ真空室に配置されているスパッタ源から複数種の蒸気を発生させ、単数又は複数の第1の蒸気を筒状案内部で超微粒子に凝縮させた後、他の蒸気と相互に拡散混合しながら、同じ真空室に配置されている基板の表面に導き、第1の蒸気から生成する超微粒子が他の蒸気から生成するマトリックスに均一分散した蒸着膜を基板表面に形成することを特徴とする超微粒子分散膜の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  B22F 9/12

FI (3件)：

C23C 14/34 T ,  H01L 21/203 S ,  B22F 9/12 Z

Fターム (17件)：

4K017AA06 ,  4K017BA02 ,  4K017BB06 ,  4K017CA08 ,  4K017EG01 ,  4K017FA02 ,  4K029BA22 ,  4K029CA05 ,  4K029DA01 ,  4K029DC13 ,  4K029DC16 ,  5F103AA08 ,  5F103BB15 ,  5F103DD16 ,  5F103DD28 ,  5F103GG10 ,  5F103RR04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 非線形光学材料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-319603   出願人：松下電器産業株式会社
• 磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-278017   出願人：株式会社東芝