特許
J-GLOBAL ID：200903014348242241

ハードコートフィルムおよびその製造方法

発明者：
西川 健

西川 健 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-005867
公開番号（公開出願番号）：特開2009-166322
出願日： 2008年01月15日
公開日（公表日）： 2009年07月30日
要約：
【課題】ハードコート層の表面硬化性を向上させ、それに伴い表面調整剤のシリコーン樹脂やフッ素樹脂を塗膜に固定し、耐擦傷性および防汚性が向上したハードコートフィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】透明基材上にハードコート材料を塗布しハードコート層を形成する塗布工程と、次に、前記透明基材上に形成したハードコート層を乾燥する乾燥工程と、次に、乾燥した前記ハードコート層表面に電離放射線を照射してハードコート層を硬化する硬化工程と、を有する製造方法により製造され、前記ハードコート材料は、少なくとも電離放射線硬化樹脂とシリコーン樹脂および/またはフッ素樹脂とを含有してなり、前記硬化工程は、酸素濃度が10000ppm以下の環境下で行われるハードコートフィルム。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透明基材上にハードコート材料を塗布しハードコート層を形成する塗布工程と、次に、前記透明基材上に形成したハードコート層を乾燥する乾燥工程と、次に、乾燥した前記ハードコート層表面に電離放射線を照射してハードコート層を硬化する硬化工程と、を有するハードコートフィルムの製造方法において、 前記ハードコート材料は、少なくとも電離放射線硬化樹脂とシリコーン樹脂および/またはフッ素樹脂とを含有してなり、 前記硬化工程は、酸素濃度が10000ppm以下の環境下で行われる ことを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。
IPC (8件)：
B32B 27/16 ,  B32B 37/00 ,  B05D 5/00 ,  B05D 5/06 ,  C08J 7/04 ,  C08F 2/44 ,  C08F 283/14 ,  G02B 1/10
FI (9件)：
B32B27/16 101 ,  B32B31/22 ,  B05D5/00 B ,  B05D5/06 F ,  C08J7/04 K ,  C08J7/04 ,  C08F2/44 C ,  C08F283/14 ,  G02B1/10 Z
Fターム (72件)：
2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB47Z ,  4D075BB56Z ,  4D075CA02 ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EB22 ,  4D075EB42 ,  4D075EC03 ,  4D075EC13 ,  4D075EC24 ,  4D075EC53 ,  4F006AA02 ,  4F006AA31 ,  4F006AA35 ,  4F006AA39 ,  4F006AB52 ,  4F006AB56 ,  4F006AB72 ,  4F006BA02 ,  4F006CA05 ,  4F100AA01B ,  4F100AK01B ,  4F100AK17B ,  4F100AK25B ,  4F100AK42 ,  4F100AK51 ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CC00B ,  4F100DE01B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ523 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ583 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JK09 ,  4F100JK12 ,  4F100JK12B ,  4F100JL06 ,  4F100JN01A ,  4J011PA66 ,  4J011PA99 ,  4J011PB32 ,  4J011PC02 ,  4J011QA21 ,  4J011QA23 ,  4J011QB24 ,  4J011RA10 ,  4J011TA09 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011VA09 ,  4J011WA02 ,  4J026AA26 ,  4J026AB44 ,  4J026BA27 ,  4J026FA05 ,  4J026GA06 ,  4J026GA10
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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