特許
J-GLOBAL ID：200903014348498351

静電吸着ステージ及びこの静電吸着ステージを備えた基板処理装置

発明者：
石原 雅仁

石原 雅仁 について

, 
高橋 信行

高橋 信行 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-290401
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145264
出願日： 1997年10月07日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 誘電体ブロックの破損が無く、処理の際の基板の温度条件の再現性が十分である静電吸着ステージを備えるようにする。【解決手段】 表面に静電気が誘起されて基板9が吸着される誘電体ブロック22は金属製のステージ本体21に固定具27で固定されており、ステージ本体21及び誘電体ブロック22を経由して基板9を加熱するヒータ26が備えられている。固定具27は一端がステージ本体21に固定され、他端が誘電体ブロック22の縁に係止された板バネであり、誘電体ブロック22とステージ本体21の熱膨張率の差によって変形する弾性を有する。ステージ本体21は電気的に接地され、吸着された基板9を臨む空間に放電が生じた際、シールド28により基板2の周囲での放電が抑制される。
請求項（抜粋）：
表面に静電気を誘起させて当該表面に基板を吸着する静電吸着ステージであって、金属製のステージ本体と、表面に静電気が誘起されて基板が吸着される誘電体ブロックと、誘電体ブロックをステージ本体に固定する固定具とを有し、固定具は、誘電体ブロックとステージ本体との熱膨張率の差によって変形する弾性を有していることを特徴とする静電吸着ステージ。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/15
FI (2件)：
H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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