特許
J-GLOBAL ID：200903014445575140
アクティブマトリクス基板の製造方法及び電気光学装置とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006544
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208397
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 表示部分を高スループットで形成でき同時に周辺駆動回路を微細化でき、周辺駆動回路の面積の縮小や、高性能化、低消費電力化を実現できる液晶表示装置等の製造方法等を提供する。【解決手段】 同一基板上に表示部と周辺駆動回路とを形成してなる電気光学装置の製造方法において、例えば、g線及びi線の両方に感度のあるレジストを用い、表示部をg線で露光し、周辺駆動回路部分はi線で露光する。
請求項（抜粋）：
基板上に複数の感光性薄膜をフォトリソグラフィー法によって加工しパターンを形成してなる電気光学装置の製造方法であって、表示領域に形成される感光性薄膜の露光の解像度に対して駆動回路領域に形成される感光性薄膜を高解像度で露光し、前記表示領域に形成されるパターンより微細加工された駆動回路のパターンを形成することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G02F 1/136 500
, G03F 7/20 502
, G09F 9/30 338
, H01L 29/786
, H01L 21/336
H01L 21/30 502 A
, G02F 1/136 500
, G03F 7/20 502
, G09F 9/30 338
, H01L 29/78 612 B
, H01L 29/78 612 D
