フォトリソグラフィ-プロセスを制御するための方法およびシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：朝日奈宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-198874
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223413
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】一定の加工結果を提供するために仕掛品(W)の作業領域に適用される加工ツール3の少なくとも1つの作業パラメータの自動光学制御のための方法を提供する。【解決手段】加工ツールの少なくとも1つの作業パラメータが、加工中の仕掛品の少なくとも1つのパラメータに影響を及ぼす。加工ツールが、仕掛品の加工の前に少なくとも1つの作業パラメータの事前設定値を有している。仕掛品の少なくとも1つのパラメータを測定し、それを表す測定済みデータを生じさせるために、加工ツールによる仕掛品の処理の前に前記仕掛品に適用される測定ツール14を提供する。作業パラメータの事前設定値に関して、及び加工結果に関して測定済みデータを分析し、加工ツールを仕掛品に適用するときに一定のプロセス結果を提供するために事前設定値を補正しなければならないかどうかを判断し、補正しなければならないことを検出したときに、補正値を計算する。

請求項（抜粋）：

一定の加工結果を提供するために仕掛品の作業領域に適用される加工ツールの少なくとも1つの作業パラメータの自動光学制御のための方法であって、加工ツールの前記少なくとも1つの作業パラメータが、加工中の仕掛品の少なくとも1つのパラメータに影響を及ぼし、加工ツールが、仕掛品の加工の前に前記少なくとも1つの作業パラメータの事前設定値を有しており、(a)加工ツールによる仕掛品の処理の前に前記仕掛品に適用される測定ツールを提供するステップと、(b)以下のために仕掛品に測定ツールを適用するステップと、(c)仕掛品の前記少なくとも1つのパラメータを測定し、それを表す測定済みデータを生じさせるステップと、(d)作業パラメータの前記事前設定値に関して、および前記加工結果に関して前記測定済みデータを分析し、加工ツールを前記仕掛品に適用するときに前記一定のプロセス結果を提供するために前記事前設定値を補正しなければならないかどうかを判断するステップと、(e)前記事前設定値を補正しなければならないことを検出したときに、補正値を計算し、それを表すデータを生じさせるステップとを含む自動光学制御のための方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 D , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-048419
露光パターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-048909 出願人：株式会社日立製作所
半導体集積回路装置の製造方法および製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-291949 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社

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