塗布膜形成装置および塗布膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-029031
公開番号（公開出願番号）：特開2005-223119
出願日： 2004年02月05日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】基板表面での転写跡の発生を抑制するとともに基板裏面へのパーティクルの付着を防止した塗布膜形成装置および塗布膜形成方法を提供する。【解決手段】レジスト塗布処理装置(CT)23aは、ガスを噴射するための複数のガス噴射口16aが設けられたステージ12と、ステージ12上でLCD基板GをX方向に搬送する基板搬送機構13と、ステージ12上を移動するLCD基板Gの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル14を備える。LCD基板Gは、ガス噴射口16aから噴射されるガスによって略水平姿勢でステージ12の表面から浮いた状態で、ステージ12上を基板搬送機構13により搬送される。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板を一方向に搬送しながら前記基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、表面の所定位置に所定のガスを噴射するための複数のガス噴射口が設けられたステージと、前記ステージ上で基板を一方向に搬送する基板搬送機構と、前記ステージ上を移動する基板の表面に所定の塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、を備え、前記基板は、前記ガス噴射口から噴射されるガスによって略水平姿勢で前記ステージの表面から浮いた状態で、前記基板搬送機構によって搬送されることを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 , B05C5/02 , B05C13/00 , B05D3/00 , G03F7/16

FI (5件)：

H01L21/30 564Z , B05C5/02 , B05C13/00 , B05D3/00 C , G03F7/16 501

Fターム (35件)：

2H025AA18 , 2H025AB14 , 2H025AB17 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025EA04 , 4D075AC02 , 4D075AC73 , 4D075AC74 , 4D075AC78 , 4D075AC82 , 4D075AC93 , 4D075BB24Z , 4D075BB56Z , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EA45 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AB01 , 4F041BA22 , 4F041CA02 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042AA10 , 4F042AB00 , 4F042BA08 , 4F042BA12 , 4F042BA25 , 4F042DF10 , 4F042DF15 , 5F046JA22

引用特許：

出願人引用 (1件)

塗布膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-331663 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

単板連続塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-099740 出願人：凸版印刷株式会社
単板塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-155062 出願人：凸版印刷株式会社
特開平4-055347

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