X線発生装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：岡田英彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-187612
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019298
出願日： 1998年07月02日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】特定範囲の波長でより強度の高いX線を発生させる。【解決手段】 X線発生装置に関し、炭素を含むターゲット材料に熱処理を施すと、ターゲット材料の密度が大きくなり、レーザー照射時に炭素が主体となるプラズマの発生量が増加し、特定範囲の波長の軟X線が高強度で得られる。一方、炭素を含む材料に加硫処理を施した場合には、ターゲット材料の炭素密度が上がると同時に硫黄が適度に炭素と混合する。このターゲット材料にレーザー光を照射すると、硫黄または硫黄化合物の高密度プラズマが多く発生する。この高密度プラズマは、特定範囲内の波長のX線を発生する炭素の励起レベルに近いエネルギーレベルを有する。この高密度プラズマからのエネルギー移行により炭素の必要とするレベルの状態分布数が増加し、そこからの遷移による特定範囲内の波長のX線強度が大幅に増加する。

請求項（抜粋）：

ターゲットにエネルギービームを照射してX線を発生させるX線発生装置において、そのターゲットには、炭素を含む材料に熱処理を施した炭素化合物、または炭素を含む材料に加硫処理を施した硫黄化合物を用いることを特徴とするX線発生装置。

IPC (3件)：

G21K 5/08 , H01J 35/08 , H05G 1/00

FI (3件)：

G21K 5/08 X , H01J 35/08 B , H05G 1/00 C

Fターム (5件)：

4C092AA06 , 4C092AA17 , 4C092AB21 , 4C092BD05 , 4C092BD19

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭61-022546
特開昭61-022546
特開昭63-128536

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