特許

J-GLOBAL ID：200903095080634206

X線発生装置

発明者： 近藤 洋行 ,  神高 典明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-249015
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087090
出願日： 1997年09月12日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 真空ポンプ(真空排気装置)等からLPXの真空容器内に放出されるオイルなどの有機物質や、LPXの標的材料から放出された炭素または炭素化合物により、真空容器内に配置された光学素子、X線光学素子、光学部材、X線被照射物体が汚染される事によるこれら光学素子などの性能低下をなくすこと、或いは性能低下を抑制することが可能なX線発生装置を提供すること。【解決手段】 減圧された真空容器内の標的部材にパルスレーザー光を照射してプラズマを形成し、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器内に酸素ガス(または酸素ガスを含む気体)を導入する機構と、前記真空容器内に配置された光学素子及び/または光学部材に、或いは前記真空容器の一部を構成している光学素子及び/または光学部材に、紫外光もしくは真空紫外光またはこれらよりも短波長の光を照射する機構と、を設けたことを特徴とするX線発生装置。

請求項（抜粋）：

減圧された真空容器内の標的部材にパルスレーザー光を照射してプラズマを形成し、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器内に酸素ガス(または酸素ガスを含む気体)を導入する機構と、前記真空容器内に配置された光学素子及び/または光学部材に、或いは前記真空容器の一部を構成している光学素子及び/または光学部材に、紫外光もしくは真空紫外光またはこれらよりも短波長の光を照射する機構と、を設けたことを特徴とするX線発生装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  G21K 1/00

FI (2件)：

H05G 1/00 K ,  G21K 1/00 X

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-313964   出願人：株式会社ニコン
• X線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-305201   出願人：株式会社ニコン