特許
J-GLOBAL ID：200903013605752128
X線発生用ターゲット、X線発生装置及びX線発生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-187301
公開番号（公開出願番号）：特開平10-031099
出願日： 1996年07月17日
公開日（公表日）： 1998年02月03日
要約：
【要約】【課題】 飛散金属粒子による光学素子及び試料等の汚染を少なくする。【解決手段】 高出力パルスレーザ装置1から出射したレーザ光を固体ターゲット5に照射する。固体ターゲット5としては、Auの微粒子をガラス中に析出させた固体材料を使用している。Auの粒径は約100nm程度で、濃度は0.001vol%以下である。ガラスの組成は、Si、B、Al、Na、K、Pb、Znを含む多成分ガラスであり、可視・近赤外領域では透明である。このような固体ターゲットを用いると、レーザ誘起プラズマ中のAu原子の数が極めて少なく、かつガラス自体が透明材料であるため、飛散粒子による汚染の影響を通常の金属ターゲットに比べて著しく少なくすることができる。
請求項（抜粋）：
レーザ光をターゲットに照射して誘起されるプラズマからX線を発生させるX線発生装置のための前記ターゲットにおいて、このターゲットが、金属微粒子を透明基板中に散在させた固体材料からなるものであることを特徴とするX線発生用ターゲット。
IPC (3件)：
G21K 5/08
, G21K 5/02
, H05G 2/00
G21K 5/08 X
, G21K 5/02 X
, H05G 1/00 K
