特許
J-GLOBAL ID：200903014719293081
DLC膜成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-080465
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262344
出願日： 2000年03月22日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】【課題】 DLC膜の成膜レートを制御することができるDLC膜成膜装置の提供。【解決手段】 成膜室2内に、材料ガスであるエチレンガスとともにヘリウムガスを供給することによりエチレンガスのイオン化率が促進される。そして、成膜室2に供給されるヘリウムガスの流量をマスフローコントローラ7Bにより制御することによって、基板1上に成膜されるDLC膜の成膜レートを制御することができる。
請求項（抜粋）：
基板を装填したチャンバー内で炭化水素ガスを放電させてプラズマ状態とし、そのプラズマ中のプラスイオンを前記基板上に捕捉してDLC膜を成膜するDLC膜成膜装置において、前記基板に成膜されるDLC膜の成膜レートを制御する制御ガスを、前記チャンバー内に供給するガス供給装置と、前記制御ガスの供給量を制御する供給量制御装置とを設けたことを特徴とするDLC膜成膜装置。
Fターム (8件)：
4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030HA13
, 4K030HA15
, 4K030JA05
, 4K030JA06
, 4K030JA12
, 4K030LA20
