特許

J-GLOBAL ID：200903014735333522

ガス状汚染物質除去装置及びガス状汚染物質除去方法

発明者： 瀧本 昭
出願人/特許権者： 有限会社金沢大学ティ・エル・オー
代理人 (2件)： 木森 有平 ,  浅野 典子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398892
公開番号（公開出願番号）：特開2005-152507
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】 簡単な装置構成でガス汚染物質を高効率で除去可能とする。【解決手段】 被処理気体中のガス状汚染物質を分解除去するガス状汚染物質除去装置である。光触媒面と、光触媒面に光を照射する光源と、光触媒面を冷却し被処理気体に含まれる凝縮性気体を光触媒面で凝縮させる冷却手段とを有する。光触媒面を冷却して被処理気体に含まれる凝縮性蒸気を凝縮させて光触媒面に液膜を形成し、光触媒面に光を照射することにより液膜中のガス状汚染物質を分解する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理気体中のガス状汚染物質を分解除去するガス状汚染物質除去装置であって、 光触媒面と、 前記光触媒面に光を照射する光源と、 前記光触媒面を冷却し被処理気体に含まれる凝縮性気体を前記光触媒面で凝縮させる冷却手段とを有することを特徴とするガス状汚染物質除去装置。

IPC (5件)：

A61L9/00 ,  A61L9/01 ,  A61L9/20 ,  B01D53/86 ,  B01J35/02

FI (5件)：

A61L9/00 C ,  A61L9/01 B ,  A61L9/20 ,  B01J35/02 J ,  B01D53/36 J

Fターム (22件)：

4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ06 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ11 ,  4C080QQ17 ,  4D048AA21 ,  4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069EA08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭55-39257号公報
  
• 汚染された媒体の光触媒的処理システムおよび方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-510673   出願人：バタース,ブライアン,イー., パウエル,アンソニー,エル

審査官引用 (3件)

• 空気清浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-112004   出願人：ウシオ電機株式会社
• 光触媒熱交換器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-260388   出願人：松下電器産業株式会社
• 空気浄化空調方法及び空気浄化空調装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-070649   出願人：高砂熱学工業株式会社