薬液処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-074473
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274133
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】薬液から揮発する成分を回収し薬液の補充量を最小とする薬液処理装置を提供する。【解決手段】薬液から揮発した成分を含む蒸気を処理槽1内の上部に設置した冷却板7で凝集させる。凝集した液体はオーバーフロー槽2に落下し、フィルター15を通って処理槽1へ戻される。オーバーフロー槽2および処理槽1の薬液の成分濃度は濃度コントローラ13でモニターされ、薬液から蒸発した成分の回収では補えない量を、貯留槽16、17、18から送液ポンプ19、20、21の駆動により処理槽1に供給して、薬液4の各成分が所定の濃度になるように制御する。

請求項（抜粋）：

薬液が満たされ半導体基板が設置される洗浄槽および該洗浄槽の周囲を囲むように配置されたオーバーフロー槽が内部に配置された密閉容器と、該密閉容器内の上部に配置され、該薬液から揮発した成分を含む蒸気を冷却して凝集させる冷却手段と、該オーバーフロー槽と該洗浄槽とを接続し、該薬液を循環させる循環路と、該循環路に設けられ、該オーバーフロー槽内の薬液を洗浄槽に送液する循環ポンプと、該循環路の該循環ポンプ下流側に設けられた濾過手段とを備えたことを特徴とする薬液処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/306

FI (2件)：

H01L 21/304 648 G , H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (4件)

温冷浴洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-227910 出願人：大塚技研工業株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-249082 出願人：松下電器産業株式会社
特開平2-159029

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