特許

J-GLOBAL ID：200903014777541346

パターン転写層を設けた有機EL転写体、有機EL被転写体および有機EL素子の製造方法

発明者： 岸 本 比呂志
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-061780
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264066
出願日： 2002年03月07日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】 比較的低温で簡易にパターン転写可能な有機EL転写体、有機EL被転写体と、これらを用いた有機EL素子の製造方法の提供。【解決手段】 支持体と、前記支持体上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成された有機EL転写層から少なくともなる有機EL転写体であって、前記有機EL転写層側の表面である転写表面が、接着性および/または濡れ性の違いによるパターンを形成しうるパターン転写層からなる。

請求項（抜粋）：

支持体と、前記支持体上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成された有機EL転写層から少なくともなる有機EL転写体であって、前記有機EL転写層側の表面である転写表面が、接着性および/または濡れ性の違いによるパターンを形成しうるパターン転写層からなることを特徴とする、有機EL転写体。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (2件)：

H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (3件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 有機EL表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-057214   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 有機EL表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-070217   出願人：株式会社オートネットワーク技術研究所, 住友電装株式会社, 住友電気工業株式会社
• 発光素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-325420   出願人：カシオ計算機株式会社