特許
J-GLOBAL ID：200903068498309843
有機EL表示装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-057214
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260549
出願日： 1998年03月09日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】従来の単純マトリックス型有機EL表示装置においては、陰極の不安定性により、パターニングが難しかった。【解決手段】有機EL表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。本発明では、転写法を用いることにより、陰極4のパターニングと発光層5の形成をレーザー9を用いて同時に行う。
請求項（抜粋）：
単純マトリックス駆動に用いる有機EL表示装置の製造方法において、フィルム上に光-熱変換層および熱伝播層を形成し、次に陰極層を形成し、次に発光層を重ねて形成し、次に正孔注入性接着層を重ねて形成した後、この多重層を形成したフィルムをストライプパターニングしたITO付き基板上に貼り付け、その後フィルム裏面からレーザーを陰極形状を形成するように照射することにより前記多重層を基板上に転写し、さらにフィルムを取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処理を施したことを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, G09F 9/30 365
, H05B 33/22
H05B 33/10
, G09F 9/30 365 B
, H05B 33/22 Z
, H05B 33/22 C
