特許
J-GLOBAL ID:200903014874122242
ターゲット装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-036302
公開番号(公開出願番号):特開2009-193934
出願日: 2008年02月18日
公開日(公表日): 2009年08月27日
要約:
【課題】ターゲット内でのブリスタリングの発生を容易に抑えることができるターゲット装置を提供する。【解決手段】陽子線Lの照射を受けて中性子を発生する物質からなる固体状のターゲット10と、ターゲット10に接する冷却板15とを備え、冷却板15には、ターゲット10によって塞がれると共に、冷却水Wが通過する螺旋溝17が形成されているターゲット装置5とした。このターゲット装置5では、ターゲット10から熱を奪う冷却水Wの流路をターゲット10に接するように形成できるため、ターゲット10を透過した直後の陽子線を冷却水Wで捕捉できる。従って、ターゲット10内でのブリスタリングの発生を抑え、さらに、陽子線Lが他の金属部材などに進入してブリスタリングを発生させてしまうことを低減できる。その結果として、ターゲット10内でのブリスタリングの発生を抑えやすくなる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
加速粒子の照射を受けて中性子を発生する物質からなる固体状のターゲットと、
前記ターゲットに接する冷却部と、を備え、
前記冷却部には、前記ターゲットによって塞がれると共に、冷却水が通過する溝が形成されていることを特徴とするターゲット装置。
IPC (3件):
H05H 6/00
, G21K 5/08
, A61N 5/10
FI (4件):
H05H6/00
, G21K5/08 N
, G21K5/08 C
, A61N5/10 D
Fターム (12件):
2G085AA11
, 2G085BA17
, 2G085BE02
, 2G085BE06
, 2G085EA07
, 4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AC07
, 4C082AE01
, 4C082AG02
, 4C082RL13
, 4C082RL21
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
中性子発生管
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-160063
出願人:三菱重工業株式会社
審査官引用 (3件)
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