特許

J-GLOBAL ID：200903014905433861

静電吸着電極およびそれを用いたプラズマ処理装置

発明者： 伊藤 陽一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-007111
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199578
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】プラズマ等により処理されるウエハを静電吸着力により支持する静電吸着電極において、広い温度範囲にわって適用可能な静電吸着電極を提供する。【解決手段】静電吸着電極15を、Al製の電極13とAl製の電極13にSiO2を添加して安定化させZrO2にTiO2を添加して形成した絶縁膜14とで構成する。これにより、広い温度範囲にわって良好にウエハを吸着保持できる。

請求項（抜粋）：

処理によって温度の異なる試料を絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着電極において、前記絶縁膜をZrO2に遷移金属を添加して形成したことを特徴とする静電吸着電極。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-088390   出願人：信越化学工業株式会社
• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-080416   出願人：東陶機器株式会社