特許
J-GLOBAL ID：200903014913261727

アライメント方法及び重ね合わせ精度計測方法

発明者：
金子 亮一

金子 亮一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100951
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284396
出願日： 1997年04月03日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 高精度・高スループットなショット内多点アライメントが可能な位置合わせ方法を提供する。【解決手段】 EGAショットS2 、S4 、S5 、S16、S17、S28、S29、S31内の第1マークMAと円A〜Dで囲まれた範囲内にある第2マークMBとの位置をそれぞれ計測する。そして、第1マークの計測結果を用いてEGA演算により各ショット領域Sの静止座標系上における配列座標を算出し、第2マークの計測結果を用いてショット内補正パラメータをEGAと同様の統計処理により算出する。この場合、計測対象である第2マークMBは、相互に隣接するショット領域内の隣接部の近傍に配置されているので、各第2マークの位置を個別に計測するものとしても、その計測の際の基板Wの移動は僅かであり、従来のショット内多点アライメントに比べて計測時間を短縮できる。
請求項（抜粋）：
基板上に配列されマスク上のパターンが転写される複数のショット領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の転写位置に対して位置合わせするために、前記複数のショット領域の前記静止座標系上における配列座標と、前記各ショット領域の前記マスク上のパターンに対する回転誤差及び形状誤差の少なくとも一方とを求めるアライメント方法であって、前記各ショット領域内の基準位置に対してそれぞれ設計上一定の相対位置関係で配置された複数個の位置検出用マークの内、予め選択された複数のショット領域内に少なくとも各1つ配置された第1マークの位置と、予め選択された相互に隣接するショット領域内の隣接部の近傍に配置された複数の第2マークの位置とをそれぞれ計測する第1工程と;前記第1工程の計測結果と前記各ショット領域内の基準位置の設計上の配列座標及び前記基準位置に対する前記第1マーク、第2マークの設計上の相対配列座標とを用いて、それぞれ所定の統計処理を行なうことにより、前記複数のショット領域の前記静止座標系上における配列座標と、各ショット領域の前記マスク上のパターンに対する回転誤差及び形状誤差の少なくとも一方とを求める第2工程とを含むアライメント方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/30 525 E ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 F
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM