特許
J-GLOBAL ID：200903014923354790
レーザにより誘発されるプラズマを用いたEUV放射線の時間的に安定な生成のための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 アキラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-170838
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032322
出願日： 2005年06月10日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】レーザにより誘発されるプラズマを用いたEUV放射線の時間的に安定な生成のための装置を提供する。【解決手段】少なくとも1つのレーザ(1)がターゲット(3)に向けられ、レーザ(1)がレーザ(1)の出力密度のきわめて安定な空間分布を有する少なくとも1つの所定平面(11;14)を有し、この所定平面(11;14)が光学結像システム(2)によってターゲット(3)に結像され、所定平面(11;14)の光学画像(22)がレーザ焦点(13)ではなくプラズマの生成のために動作するように縮小されることにより実現される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも1つのレーザがプラズマ生成のためのターゲットに向けられる軟x線、特にEUV放射線の生成装置において、
前記レーザ(1)が前記レーザ(1)の出力密度のきわめて安定な空間分布を有する平面として選択される少なくとも1つの所定平面(11;14)を有すること、及び
結像システム(2)が前記ターゲット(3)上に前記レーザ(1)の出力密度の安定した空間分布の前記所定平面(11;14)の縮小光学画像を生成するように設けられ、前記所定平面(11;14)の前記光学画像(22)が前記レーザ焦点(13)ではなく、前記レーザビーム(12)と前記ターゲット(3)との間の相互作用点(4)におけるプラズマの生成のために動作すること
を特徴とする装置。
IPC (3件)：
H05G 2/00
, G21K 5/08
, H01L 21/027
H05G1/00 K
, G21K5/08 X
, H01L21/30 531S
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB10
, 4C092AC09
, 4C092BD20
, 5F046GC03
