特許
J-GLOBAL ID：200903015013174850
表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354023
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201831
出願日： 1993年12月30日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 表面処理装置において、簡単な構造を有し、低圧力でプラズマを生成し、かつ被処理基板に対するイオンの照射エネルギを小さくする。【構成】 真空容器1と、排気機構7と、ガス導入機構と、筒形の放電用電極2と、この放電用電極に電力を供給する電極供給機構10,11,12と、磁気回路4と、真空容器内に設置される少なくとも1つの基板保持機構5を備え、磁気回路は放電用電極に対し同軸位置であって間隔をおいて並べられた複数のリング状永久磁石401,402 からなり、各々のリング状永久磁石は隣合う磁極の極性が互いに逆になるように径方向に着磁され、少なくとも隣合う2個のリング状永久磁石が放電用電極2の周囲に配置され、かつその他の永久磁石が基板支持機構の前面空間の周囲に配置され、基板保持機構の基板設置面が、磁気回路の端部の近傍にて放電用電極の中心軸に対し垂直に配置される。
請求項（抜粋）：
真空容器と、この真空容器内を減圧状態にする排気機構と、前記真空容器内に放電用ガスを導入するガス導入機構と、前記ガスを放電させプラズマを発生させるため筒形の放電用電極と、この放電用電極にプラズマ発生用電力を供給する電極供給機構と、前記放電用電極の周囲に設置される磁気回路と、前記真空容器内に設置される少なくとも1つの基板保持機構を備える表面処理装置において、前記磁気回路は前記放電用電極に対し同軸位置であって間隔をおいて並べられた複数のリング状永久磁石からなり、各々の前記リング状永久磁石は隣合う磁極の極性が互いに逆になるように径方向に着磁され、前記複数のリング状永久磁石のうち少なくとも隣合う2個の前記永久磁石が前記放電用電極の周囲に配置され、かつその他の前記永久磁石が前記基板支持機構の前面空間の周囲に配置され、前記基板保持機構の被処理基板を設置する面が、前記磁気回路の端部の近傍にて前記放電用電極の中心軸に対し垂直に配置される、ことを特徴とする表面処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 C
