特許

J-GLOBAL ID：200903015206552800

微細パターン形成材料組成物

発明者： 降▲旗▼ 智欣 ,  加藤 英人
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246686
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060641
出願日： 2000年08月16日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】【解決手段】 水溶性高分子化合物と酸の存在により架橋反応を生じる水溶性架橋剤とを含有し、酸の存在により非水溶性生成物を生じる微細パターン形成材料組成物において、pH(水素イオン指数)が4.0〜7.0であることを特徴とする微細パターン形成材料組成物。【効果】 本発明の微細パターン形成材料組成物は、保存安定性に優れたものである。

請求項（抜粋）：

水溶性高分子化合物と酸の存在により架橋反応を生じる水溶性架橋剤とを含有し、酸の存在により非水溶性生成物を生じる微細パターン形成材料組成物において、pH(水素イオン指数)が4.0〜7.0であることを特徴とする微細パターン形成材料組成物。

IPC (4件)：

C08L101/14 ,  C08K 5/1575 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/26 501

FI (4件)：

C08L101/14 ,  C08K 5/1575 ,  G11B 5/84 Z ,  G11B 7/26 501

Fターム (33件)：

4J002AA07W ,  4J002AA071 ,  4J002AB03W ,  4J002AB031 ,  4J002BE02W ,  4J002BE021 ,  4J002BE06W ,  4J002BE061 ,  4J002BG01W ,  4J002BG011 ,  4J002BH01W ,  4J002BH011 ,  4J002BJ00W ,  4J002BJ001 ,  4J002CC18X ,  4J002CC21X ,  4J002CH02W ,  4J002CH021 ,  4J002CM01W ,  4J002CM011 ,  4J002EL066 ,  4J002EL106 ,  4J002EP016 ,  4J002FD14X ,  4J002FD146 ,  4J002FD200 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA04 ,  4J002HA05 ,  5D112AA24 ,  5D112EE06 ,  5D112GA30 ,  5D121BB11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 水溶性フォトレジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-135855   出願人：凸版印刷株式会社
• ネガ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-121049   出願人：三菱化学株式会社
• 微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-080940   出願人：三菱電機株式会社