特許
J-GLOBAL ID:200903015239779517

板厚方向にSi濃度勾配を有する傾斜磁性材料の製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-101073
公開番号(公開出願番号):特開平11-293445
出願日: 1998年04月13日
公開日(公表日): 1999年10月26日
要約:
【要約】【課題】板厚方向に所望のSi濃度勾配を有する傾斜磁性材料を連続的にかつ再現性よく製造することができる製造装置を提供する。【解決手段】脱脂された鋼板を所定温度まで加熱する加熱炉1と、この鋼板を反応性Si化合物を含む無酸化性ガス雰囲気中で珪浸処理する浸珪処理炉2と、必要により設けた拡散処理炉3と、浸珪処理された鋼板を冷却する冷却炉4と、絶縁皮膜塗布装置12、乾燥・焼付装置13とを順に配置して、板厚方向にSi濃度勾配を有する傾斜磁性材料を連続して製造する製造装置。
請求項(抜粋):
脱脂された鋼板を所定温度まで加熱する加熱炉と、この鋼板を反応性Si化合物を含む無酸化性ガス雰囲気中で珪浸処理する浸珪処理炉と、珪浸処理された鋼板を冷却する冷却炉と、絶縁皮膜塗布装置と、乾燥・焼付装置とを順に配置して、板厚方向にSi濃度勾配を有する傾斜磁性材料を連続して製造する製造装置。
IPC (5件):
C23C 10/08 ,  C22C 38/00 303 ,  C23C 22/00 ,  H01F 1/147 ,  H01F 27/24
FI (5件):
C23C 10/08 ,  C22C 38/00 303 S ,  C23C 22/00 A ,  H01F 1/14 A ,  H01F 27/24 Z
引用特許:
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る