特許
J-GLOBAL ID:200903015269521573

膜によるフルオロケミカルの分離回収方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-298809
公開番号(公開出願番号):特開平10-128034
出願日: 1997年10月30日
公開日(公表日): 1998年05月19日
要約:
【要約】【課題】 希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有しているガス流から膜を利用してフルオロケミカルを分離及び回収するための方法を提供する。【解決手段】 圧縮(20)及び加熱(22)した高圧高温のガス流を、フルオロケミカルよりも希釈剤ガスを選択的により多く透過させる膜と接触(24)させて、希釈剤ガスに富む透過物流26とフルオロケミカルに富む残留物とにし、この残留物を、フルオロケミカルよりも希釈剤ガスを選択的により多く透過させる別の一つ以上の膜と接触(30)させて、希釈剤ガスに富む第二の透過物流18とフルオロケミカルに富む第二の残留物32とにし、第二の透過物流18を圧縮工程へ再循環させて、希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有しているガス流とともに圧縮して高圧にする。
請求項(抜粋):
下記の(a)〜(e)の工程を含む、希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有しているガス流からこのガス流を膜と接触させることによりフルオロケミカルを分離及び回収するための方法。(a)希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有しているガス流を圧縮して高圧にする工程(b)希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有しているこのガス流を、工程(c)の透過物流の流束を増加させるのと、工程(c)のフルオロケミカルの透過に対する工程(c)の希釈剤ガスの透過についての工程(c)の膜の選択性を上昇させるのとに十分な高温に加熱する工程(c)このガス流を、当該フルオロケミカルよりも当該希釈剤ガスを選択的により多く透過させる膜と接触させて、当該希釈剤ガスに富む透過物流とフルオロケミカルに富む残留物とにする工程(d)この残留物を、当該フルオロケミカルよりも当該希釈剤ガスを選択的により多く透過させる別の一つ以上の膜と接触させて、当該希釈剤ガスに富む第二の透過物流とフルオロケミカルに富む第二の残留物とにする工程(e)この第二の透過物流を工程(a)へ再循環させて、上記希釈剤ガスとフルオロケミカルとを含有している上記ガス流とともに圧縮して高圧にする工程
IPC (2件):
B01D 53/22 ,  B01D 61/58
FI (2件):
B01D 53/22 ,  B01D 61/58
引用特許:
審査官引用 (7件)
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